Kes permohonan mengintip dalam industri semikonduktor elektronik, fotovoltaik dan FPD (2)

Kes permohonan mengintip dalam industri semikonduktor elektronik, fotovoltaik dan FPD (2)

Mengintip pemegang wafer

Pemegang wafer Peek Wafer Holder, alat untuk pemeriksaan tangan wafer.
Peek Polymer adalah termoplastik berprestasi tinggi dengan gabungan ciri-ciri yang sangat baik yang direka untuk memenuhi permintaan industri elektronik yang semakin meningkat.
1. Rintangan suhu tinggi: Ia mempunyai rintangan haba sehingga 300 ° C. Ia dapat mengekalkan kekuatan dan kestabilan dimensi di bawah suhu tinggi proses pematerian bebas plumbum. Ia tidak akan berubah dalam 5-10 saat pada suhu 250-280 ° C. Disertakan dengan fenomena refluks

2. Pakai Rintangan: Kekuatan Mekanikal Tinggi dan Rintangan Pakai

3. Kestabilan dimensi: Bahan gred pengisian mengurangkan pekali pengembangan haba, meningkatkan suhu herotan haba, dan memastikan kawalan dimensi yang ketat
4. Peluang yang rendah: Mengurangkan pencemaran dan meningkatkan kebolehpercayaan dalam aplikasi di mana aksesori mempunyai keperluan kesucian (seperti pemacu cakera keras, kotak wafer)
5. Hygroscopicity yang rendah, yang sangat penting untuk mengekalkan kestabilan dimensi dan prestasi penebat

Penggelek Peek digunakan dalam industri semikonduktor elektronik, fotovoltaik, FPD

1. Rintangan haus yang sangat baik dan kekerasan permukaan yang tinggi dapat mengurangkan penjanaan habuk.

2. Kesucian ultra tinggi, precipitates rendah dan pelepasan yang rendah, yang boleh mengelakkan pencemaran.

3. Rintangan haba yang tinggi, suhu penggunaan jangka panjang ialah 260 ° C.

4. Rintangan kakisan kimia, dapat menahan bahan -bahan yang menghakis bahan kimia, mengurangkan kerosakan peralatan

keperluan penyelenggaraan.

5. Penebat elektrik yang baik, penggunaan jangka panjang dalam persekitaran suhu tinggi, masih dapat mengekalkan kebaikan

Penebat elektrik yang baik.

6. Kebisingan yang rendah.

Mengintip cincin pengisaran cmp

Bahan Alternatif: PPS

Sebagai peringkat penting dalam proses pembuatan semikonduktor, penggilap mekanikal kimia (CMP) memerlukan kawalan proses yang ketat, toleransi yang ketat dan bentuk permukaan dan satah yang berkualiti tinggi. Pengurangan produk dan peralatan elektronik terus dilancarkan. Permintaan yang lebih tinggi diletakkan pada prestasi proses; Kesemua faktor ini menjadi semakin ketat, dan dengan itu keperluan prestasi gegelung penahan cincin (komponen kritikal proses CMP) juga semakin meningkat. CMP Retaining Rings digunakan untuk melancarkan wafer semasa mengetuk untuk menjamin wafer. Tenaga Pusat menghasilkan kadar polish yang lebih rendah, permukaan licin, toleransi planar yang ketat, kestabilan bahan yang lebih tinggi, dan rintangan getaran yang lebih rendah, tetapi premisnya ialah pemilihan bahan dan reka bentuk cincin penetapan CMP harus munasabah. Terutama jika permukaan bawah cincin penetapan CMP sangat rata, output wafer akan meningkat dengan sewajarnya.

Kelebihan utama:

1. Kestabilan dimensi tinggi; Ia boleh mengekalkan modulus di bawah keadaan suhu tinggi dan meningkatkan prestasi proses yang lebih tinggi dan prestasi produk.

2. kemudahan pemprosesan;

3. Ciri -ciri mekanikal yang baik; Sesuai untuk rintangan impak, pemasangan peralatan cepat, kelajuan robot yang baik dan kualiti produk yang stabil.

4. Rintangan kakisan kimia yang baik; Mampu menahan kakisan kebanyakan bahan kimia, yang bermanfaat untuk melindungi bahagian -bahagian dan memanjangkan hayat perkhidmatan mereka.

5. Rintangan haus yang baik.

6. Ia dapat mengurangkan kos sistem bersepadu, dan telah terbukti bahawa pelaburan itu diberi ganjaran.

Mengintip skru, mengintip bolt, mengintip skru

Digunakan untuk menggantikan: pp \ pa \ pom dan bahan biasa lain

Ciri -ciri dan kelebihan skru mengintip:

1. Proses pencetakan suntikan boleh digunakan untuk cetakan satu kali, dan kos pemprosesan adalah rendah.

2. Rintangan kakisan, rintangan yang baik terhadap pelbagai bahan kimia dalam pelbagai

3. Rintangan suhu tinggi: Suhu penggunaan jangka panjang ialah 260 ° C, dan suhu penggunaan jangka pendek boleh mencapai 300 ° C.

4. Berat ringan.

5. Prestasi elektrik yang sangat baik.

6. Rintangan Sinaran.

Mengintip cawan sedutan bukan vakum vakum

Bahan Alternatif: Getah

Skop Penggunaan: Untuk penyerapan lancar skrin telefon bimbit, skrin LCD, dll.

Kelebihan:

1. Pemanasan segera hingga 300 darjah Celsius, pemanasan berterusan hingga 250 darjah Celsius

2. Penjerapan yang tidak disengajakan

3. Kesucian Tinggi, Tiada Unsur Halogen, Tiada Pencemaran terhadap Bahan Semikonduktor

4. Rintangan kakisan kimia

5. Kekuatan Tinggi dan Rintangan Pakai

6. Boleh ditingkatkan ke pengeluaran mengintip anti-statik

Mengintip tip sedutan vakum, batang tip sedutan vakum

Skop Permohonan: Untuk wafer semikonduktor 2-8 inci atau wafer epitaxial LED

Kelebihan:

1. Pemanasan segera hingga 300 darjah Celsius, pemanasan berterusan hingga 250 darjah Celsius

2. Penjerapan yang tidak disengajakan

3. Kesucian Tinggi, Tiada Unsur Halogen, Tiada Pencemaran terhadap Bahan Semikonduktor

4. Rintangan kakisan kimia

5. Kekuatan Tinggi dan Rintangan Pakai

6. Boleh ditingkatkan ke pengeluaran mengintip anti-statik